公司代码：688147 公司简称：微导纳米
江苏微导纳米科技股份有限公司
2022 年年度报告摘要
第一节 重要提示
1 本年度报告摘要来自年度报告全文，为全面了解本公司的经营成果、财务状况及未来发展规
划，投资者应当到 www.sse.com.cn 网站仔细阅读年度报告全文。
2 重大风险提示
公司已在年度报告全文中详细描述可能存在的相关风险，敬请查阅年度报告全文第三节管理层讨论与分析“四、风险因素”部分内容。
3 本公司董事会、监事会及董事、监事、高级管理人员保证年度报告内容的真实性、准确性、
完整性，不存在虚假记载、误导性陈述或重大遗漏，并承担个别和连带的法律责任。
4 公司全体董事出席董事会会议。
5 天职国际会计师事务所（特殊普通合伙）为本公司出具了标准无保留意见的审计报告。
6 公司上市时未盈利且尚未实现盈利
□是 √否
7 董事会决议通过的本报告期利润分配预案或公积金转增股本预案
考虑到公司未来产品研发、市场拓展及订单实施等运营资金需求量较大，为保障公司长期稳定发展，更好地维护全体股东的长远利益，公司 2022 年度不进行利润分配，也不进行资本公积转增股本。以上利润分配预案已经公司第二届董事会第五次会议及第二届监事会第五次会议审议通过，尚需公司 2022 年年度股东大会审议。
8 是否存在公司治理特殊安排等重要事项
□适用 √不适用
第二节 公司基本情况
1 公司简介
公司股票简况
√适用 □不适用
公司股票简况
股票种类 股票上市交易所及板块 股票简称 股票代码 变更前股票简称
人民币普通股 上海证券交易所科创板 微导纳米 688147 不适用
（A股）
公司存托凭证简况
□适用 √不适用
联系人和联系方式
联系人和联系方式 董事会秘书（信息披露境内代表） 证券事务代表
姓名 龙文 朱敏晓
办公地址 无锡市新吴区新硕路9-6号厂房 无锡市新吴区新硕路9-6号
厂房
电话 0510-81975986 0510-81975986
电子信箱 wen.long@leadmicro.com wen.long@leadmicro.com
2 报告期公司主要业务简介
(一) 主要业务、主要产品或服务情况
微导纳米是一家面向全球的半导体、泛半导体高端微纳装备制造商。公司形成了以原子层沉积（ALD）技术为核心，CVD 等多种真空薄膜技术梯次发展的产品体系，专注于先进微米级、纳米级薄膜设备的研发、生产与销售，向下游客户提供先进薄膜设备、配套产品及服务。在半导体领域内，公司已与国内多家厂商建立了深度的合作关系，深化推动 ALD 产业化应用领域和业务迅速发展，相关产品涵盖了逻辑、存储、化合物半导体、新型显示等诸多细分应用领域，多项设备的工艺质量、产能水平、稳定运行能力等关键指标均已达到了国际先进水平。同时，公司藉由现有的薄膜沉积类产品研发、推广和产业化的经验，开发了多种 CVD 真空薄膜技术产品。在光伏领域内，公司作为率先将 ALD 技术规模化应用于国内光伏电池生产的企业，目前已成为行业内提供高效电池技术与设备的领军者之一，与国内头部光伏厂商形成了长期合作伙伴关系。根据公开的市场数据统计，公司 ALD 产品已连续多年在营收规模、订单总量和市场占有率方面位居国内同类企业第一。
公司已开发和正在开发的适用于半导体、光伏等应用领域的多款薄膜沉积设备，涵盖 ALD、CVD 系列产品，并提供配套产品及服务，具体如下：
1、半导体领域主要产品
产品系列 产品图示 产品说明 产业化
阶段
适用于高介电常数（High-k）栅氧层、
MIM 电容器绝缘层、TSV 介质层金属、
iTomic 系列原子 金属氮化物等薄膜工艺需求。产品凭借原 产业化
层沉积镀膜系统 子级别的精确控制、高覆盖率薄膜沉积和 应用
极高的工艺均匀性等优势，可为逻辑芯
片、存储芯片、微纳制造以及先进封装提
供介质层等关键工艺解决方案。
采用创新的批量型（mini-batch）腔体设
计，可一次处理 25 片 12 英寸晶圆，适用
iTomic MW 系列 于成膜镀率低，厚度要求高，以及产能要
批量式原子层沉 求高的关键工艺及应用。产品利用特有的 产业化
积镀膜系统 流场设计，具有成膜速度快，占地面积小， 验证
产能高、使用成本低等优势，为存储芯片
以及 Micro-OLED 显示器、MEMS 等提供
定制化量产的解决方案。
采用原创设计开发的自动化平台与模块
iTomic Lite 系列 化 ALD 反应腔相结合，可以按需配置
轻型原子层沉积 PEALD 或 Thermal ALD 等工艺需求。 产业化
镀膜系统 iTomic Lite 系列设备具有强大的兼容性， 验证
其硬件配置在保持量产机型强大功能的
前提下，可满足各类晶圆尺寸（6、8 英
寸）量产工艺需求，同时也可满足客户高
端研发和新工艺试量产需求。iTomic Lite
系列可广泛应用于 MEMS、光电器件等
泛半导体器件领域。
可根据不同温度要求制备氧化硅、氮化
硅、氮氧化硅等薄膜制备工艺及应用，通
过精准快速控制成膜速度、超低反应温
iTomic PE 系列 度、材料配比等技术，完美实现材料厚度
等离子体增强原 均匀性、膜应力，热过程，以及阶梯覆盖 产业化
子层沉积镀膜系 率等极具挑战的工艺需求，技术达到国际 验证
统 先进水平。iTomic PE 系列设备可为逻辑
芯片、存储芯片、先进封装等提供客制化
掩膜层、介质层、图案化等关键工艺解决
方案。
Trancendor 平台系列是微导纳米独立研
发的、适用于高产能半导体制程设备的晶
Trancendor 晶圆 圆传输系统。该系统可根据客户工艺需 产业化
真空传输系统 要，灵活挂载一至多个工艺腔体（每个工 应用
艺腔体可配备一至多个工作站）在真空环
境下进行快速高效晶圆传输。
iTronix系列CVD系统是公司根据下游客
户需求，独立开发或合作开发的多款
CVD 产品系列，应用于 CVD 技术不同镀
iTronix 系列 膜领域，适用于制备氧化硅、氮化硅、氮 开发实
CVD 系统 氧化硅、非晶碳、非晶硅、掺杂非晶硅、 现
锗硅等不同种类薄膜，可应用于逻辑、存
储、先进封装、显示器件以及化合物半导
体等领域芯片制造。
注：1、随着公司产品种类的不断丰富，公司持续完善产品型号命名规则。报告期内，公司结合设备平台类型重新命名产品型号，下同；2、产业化应用是指已实现销售，产业化验证是指已签署合同并正在履行，开发实现是指已形成研发样机，虽未与客户签署销售合同但已发往客户处
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