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金股首页 科创 688072 拓荆科技-U
688072 拓荆科技-U - 基本信息 更多
  • 1、公司名称:拓荆科技股份有限公司
  • 2、所属证监行业:制造业-专用设备制造业
  • 3、上市日期:2022-04-20
  • 4、流通市值:242.29亿
  • 5、股东人数:-2.92%
  • 6、资产负债:53.6700%
  • 7、每股收益:1.45元
  • 8、人均持股:3620000.00元
  • 9、筹码集中:非常集中
  • 10、法人代表:刘静
  • 11、证券类别:上交所科创板A股
拓荆科技-U股东人数变化 更多

股东户数

*最新 2024-03-31 股东人数9495户,较上期 19.02户 ,较上期变化 +25.05%

拓荆科技-U股票每股收益财务分析 更多

每股收益

拓荆科技-U十大股东数据

*拓荆科技-U十大股东总持仓比变化

拓荆科技-U龙虎榜数据 更多
上榜日期 上榜原因 买入额 卖出额 席位净额

龙虎榜席位

2023-04-14 有价格涨跌幅限制的日收盘价格涨幅达到15%的前五只证券 4.82亿 2.31亿 2.5亿 查看
2023-04-14 有价格涨跌幅限制的连续3个交易日内收盘价格涨幅偏离值累计达到30%的证券 6.93亿 3.14亿 3.78亿 查看
2022-10-11 有价格涨跌幅限制的日收盘价格跌幅达到15%的前五只证券 1.96亿 2.81亿 -8519.47万 查看
2022-08-29 有价格涨跌幅限制的日收盘价格涨幅达到15%的前五只证券 4802.84万 3727.61万 1075.23万 查看
2022-07-06 有价格涨跌幅限制的日收盘价格涨幅达到15%的前五只证券 1.4亿 1.06亿 3430.68万 查看
2022-04-27 有价格涨跌幅限制的日收盘价格涨幅达到15%的前五只证券 7363.85万 8553.26万 -1189.41万 查看

拓荆科技-U公司信息

曾经用名

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公司简介

拓荆科技股份有限公司成立于2010年4月,是国家高新技术企业,主要从事半导体专用设备的研发、生产、销售与技术服务。公司在北京、上海、海宁、沈阳、美国成立子公司。公司主要产品包括等离子体增强化学气相沉积(PECVD)设备、原子层沉积(ALD)设备和次常压化学气相沉积(SACVD)设备三个产品系列,拥有自主知识产权,技术指标达到国际同类产品先进水平,公司产品已广泛应用于集成电路晶圆制造,以及TSV封装、光波导、Micro-LED、OLED显示等新技术领域。公司产品已进入北京、上海、武汉、合肥、天津、台湾等20多个地区的60多条生产线,并设有技术服务中心,为客户提供每周7天,每天24小时的技术服务。公司已形成一支国际化的专业团队,具备高科技研发实力及管理经验。通过多年技术积累,公司已建立自主知识产权的核心技术群及知识产权体系,被国家知识产权局评为“国家知识产权示范企业(2019-2022)”。公司总部坐落于沈阳市浑南区,拥有现代化办公大楼及高等级洁净厂房,总建筑面积达40,000平方米。目前公司生产能力可以满足生产需求。公司已通过ISO9001、ISO14001、ISO45001体系的认证,并拥有覆盖全球的供应商网络。拓荆公司愿与业界伙伴建立真诚、友好、共赢的产业合作联盟,为中国及世界半导体产业的发展做出贡献。

经营范围

一般项目:技术服务、技术开发、技术咨询、技术交流、技术转让、技术推广,电子专用设备制造,电子专用设备销售,半导体器件专用设备制造,半导体器件专用设备销售,机械零件、零部件加工,机械零件、零部件销售,销售代理,非居住房地产租赁(除依法须经批准的项目外,凭营业执照依法自主开展经营活动)